EDI模塊的維護(hù)主要是針對(duì)出水量下降、水質(zhì)惡化等問(wèn)題，是對(duì)EDI進(jìn)行清洗、調(diào)整參數(shù)、更換部件。
EDI模塊用于水的凈化，如超純水的制備。
在制備超純水或其他應(yīng)用過(guò)程中，EDI模塊可能因外部壓力過(guò)大或內(nèi)部故障而需要維修。
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EDI損壞的主要原因

EDI模塊是純水或者超純水設(shè)備的核心部件，當(dāng)EDI運(yùn)行不穩(wěn)定或者無(wú)法使用時(shí)，會(huì)造成拋光混床樹(shù)脂的使用期限降低或者失去使用效果，***終導(dǎo)致水質(zhì)產(chǎn)出異常，從而影響生產(chǎn)工作。

引起EDI模塊故障的原因主要有以下幾點(diǎn)：

1、當(dāng)模塊長(zhǎng)期處于大電流、小流量的運(yùn)行狀態(tài)時(shí)，運(yùn)行溫度會(huì)增加并且不能及時(shí)散熱，將會(huì)導(dǎo)致兩極膜片受熱變形，導(dǎo)致進(jìn)出水壓差增大，產(chǎn)水水量減少、水質(zhì)下降。

2、當(dāng)EDI模塊長(zhǎng)期沒(méi)有保養(yǎng)或清洗，將會(huì)使得EDI內(nèi)部膜片和通道結(jié)垢，進(jìn)出水壓差增大，產(chǎn)水水質(zhì)下降，電壓上升，電流調(diào)節(jié)異常，***終將導(dǎo)致模塊無(wú)法使用，影響工作進(jìn)度。

3、當(dāng)清洗、保養(yǎng)時(shí)使用不合適的藥劑,會(huì)使得模塊內(nèi)部樹(shù)脂破損，導(dǎo)致進(jìn)出水壓差增大，產(chǎn)水水量減少、水質(zhì)下降。

4、在缺水缺水狀態(tài)加電，導(dǎo)致膜片和樹(shù)脂發(fā)熱碳化。

深圳超純環(huán)保股份有限公司有***維修技術(shù)人員可以對(duì)EDI模塊、CEDI模塊的損壞程度進(jìn)行診斷并提供維修/再生服務(wù)，***EDI模塊恢復(fù)正常水平，避免更換模塊的***，用較少***延長(zhǎng)使用時(shí)間。

EDI電源有什么作用？

　　EDI電源為配套水處理EDI模塊直流電源。無(wú)論是單模塊系統(tǒng)或多組模塊系統(tǒng)，該電源配套使用為一個(gè)EDI模塊配一組立電源系統(tǒng)的一對(duì)一工作方式，確保每個(gè)EDI模塊具有立的電源供給系統(tǒng)。該EDI電源的交流供電系統(tǒng)可以配裝交流控制部分，以實(shí)現(xiàn)與EDI前端設(shè)備的程序控制；EDI在水處理系統(tǒng)正常情況下才能實(shí)現(xiàn)交流供電。不致因斷水、壓力過(guò)高、進(jìn)水水質(zhì)差等情況下供電，這種情況下切斷 EDI 電源的交流電源。同時(shí)，該電源本身配置了斷水保護(hù)電路，在典型安裝 中，保護(hù)電路中連接一個(gè)或多個(gè)水流繼電器，當(dāng)沒(méi)有水時(shí)，系統(tǒng)或模塊 全部或個(gè)別缺水時(shí)，防止EDI電源送電。這個(gè)操作沒(méi)有切斷交流電源。EDI電源可以輸出不同的電壓、電流等級(jí)，為配套各種型號(hào)CEDI模塊提供選擇。

超純水在光學(xué)領(lǐng)域發(fā)揮著越來(lái)越重要的作用。超純水的水質(zhì)純度已成為影響光學(xué)器件產(chǎn)品質(zhì)量、產(chǎn)量和生產(chǎn)成本的重要因素之一。

　　光學(xué)領(lǐng)域在以下情形下需要使用超純水：

　　1、用于清潔的超純水。如果水中含有氯離子，電容器就會(huì)漏電。

　　2、在電子管的生產(chǎn)中，電子管的陰極涂有碳酸鹽。如果混入雜質(zhì)，會(huì)影響電子管的質(zhì)量。因此，應(yīng)使用超純水進(jìn)行液體制備。

　　3、在顯像管和陰極射線管的生產(chǎn)中，通過(guò)噴涂或沉淀法在熒光屏的內(nèi)壁上附著一層熒光物質(zhì)，該熒光物質(zhì)是由鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光顆粒，并與硅酸鉀粘結(jié)，其制備也需要超純水。

4、在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12道工序中，玻殼清洗、沉淀、潤(rùn)濕、洗膜、管頸清洗等5道工序需要超純水。

　　5、液晶屏需要用超純水清洗，并與超純水混合。如果水中含有金屬離子、微生物和顆粒等雜質(zhì)，LCD電路將出現(xiàn)故障，影響LCD屏幕的質(zhì)量。

　　6、在晶體管和集成電路生產(chǎn)中，超純水主要用于清洗硅片，少量用于藥液配制、部分設(shè)備冷卻水、電鍍液配制等。

　　超純水設(shè)備已經(jīng)成為電子產(chǎn)品質(zhì)量安全的重要設(shè)備。根據(jù)光學(xué)元件用水要求，對(duì)超純水處理技術(shù)進(jìn)行了全自動(dòng) EDI超純水處理、預(yù)處理及反滲透處理，有效去除水中的各種鹽類和雜質(zhì)，進(jìn)一步改善水質(zhì)，使出水水質(zhì)滿足現(xiàn)場(chǎng)光學(xué)元件的用水要求。在原料選擇、設(shè)計(jì)技術(shù)、數(shù)據(jù)監(jiān)測(cè)、環(huán)境保護(hù)等方面均有較好的應(yīng)用前景。改進(jìn)工藝可提高系統(tǒng)回收率，降低能耗和運(yùn)行費(fèi)用。

EDI超純水設(shè)備的使用壽命與其使用方法密切相關(guān)，如果維護(hù)保養(yǎng)得當(dāng)?shù)脑?，各部件將承受相?duì)較小的運(yùn)行壓力，因此它的性能更穩(wěn)定且使用的壽命更長(zhǎng)。那么在設(shè)備工作的期間，該如何長(zhǎng)期去維護(hù)保養(yǎng)呢？下面讓我們來(lái)認(rèn)識(shí)一下吧。

維護(hù)保養(yǎng)的方法
1. 如果沒(méi)有閱讀用戶手冊(cè)并接受相關(guān)的操作培訓(xùn)，請(qǐng)不要嘗試操作EDI超純水設(shè)備，若不按本手冊(cè)步驟操作，可能會(huì)對(duì)設(shè)備造成嚴(yán)重的傷害。
2. 隨意拆卸EDI或拆除定位螺栓和操作和使用不當(dāng)?shù)脑?，可能?dǎo)致嚴(yán)重的人身傷害和保修服務(wù)故障。
3. 當(dāng)需要在EDI超純水設(shè)備在附近工作時(shí)，請(qǐng)斷開(kāi)直流電源，以免觸電。操作過(guò)程中，用水取出所有熱量，檢查淡水進(jìn)水閥、濃水排放閥和極水排放閥的開(kāi)啟情況，否則會(huì)燃燒EDI膜塊，造成不可彌補(bǔ)的損壞。緩慢調(diào)節(jié)閥門(mén)，避免水錘損壞膜塊。
4. 日常維護(hù)是在系統(tǒng)維護(hù)的基礎(chǔ)上，用戶在使用設(shè)備時(shí)應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)化、制度化，并按照相關(guān)操作程序和工作計(jì)劃實(shí)施，這樣才能有效設(shè)備系統(tǒng)的長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行。
5. EDI純水設(shè)備在工作的過(guò)程中，設(shè)備的表面經(jīng)常吸收大量的微生物、顆粒物等雜質(zhì)。清洗方法是維護(hù)過(guò)程中重要的步驟，不僅能夠恢復(fù)設(shè)備的性能，還可以延長(zhǎng)設(shè)備的使用壽命。實(shí)際使用過(guò)程中根據(jù)進(jìn)水情況可調(diào)整系統(tǒng)的運(yùn)行時(shí)間和清洗時(shí)間。