.更新完成后，將向客戶出具EDI組件維護報告和EDI組件損壞判斷報告，幫助業(yè)主更好地使用EDI組件，幫助維護其純水系統(tǒng)。
、維修完成后，重新測試，工廠測試合格后48小時再測試給客戶。
可提供清洗劑及完整的清洗保養(yǎng)方案。
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工業(yè)EDI去離子水設備是目前比較的電滲析和離子交換技術，與普通去離子水設備相比，不僅提高了導電性，而且增強了離子從溶液到膜表面的遷移，提高了極限電流密度，是許多對水要求較高的行業(yè)的理想設備之一。
隨著這種純凈水設備的口感越來越好，EDI去離子水設備的應用也越來越廣泛。
在維護中，需要注意哪些問題？
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EDI模塊的維護主要是針對出水量下降、水質(zhì)惡化等問題，是對EDI進行清洗、調(diào)整參數(shù)、更換部件。
EDI模塊用于水的凈化，如超純水的制備。
在制備超純水或其他應用過程中，EDI模塊可能因外部壓力過大或內(nèi)部故障而需要維修。
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對于EDI模塊的維護，需要分析水質(zhì)惡化是否由樹脂或管道污染、參數(shù)設置錯誤、電壓不足引起。
1. 干凈的EDI。
水質(zhì)惡化的主要原因是樹脂被污染，進出口的污染也可能導致出水水質(zhì)惡化，可以通過分析污染類型，采取有針對性的清洗來解決。
2. 調(diào)整參數(shù)。
如果產(chǎn)水參數(shù)不在正確范圍內(nèi)，則水質(zhì)會變差，可以通過調(diào)整相關的產(chǎn)水參數(shù)來解決問題。
3.調(diào)整電源。
如果是電源極性，應立即切斷電源，檢查接線，將直流電壓調(diào)整到規(guī)定的范圍，并檢查各電路連接是否正確。EDI模塊水質(zhì)惡化的維護要點:
對于EDI模塊的維護，需要分析水質(zhì)惡化是否由樹脂或管道污染、參數(shù)設置錯誤、電壓不足引起。
1. 干凈的EDI。
水質(zhì)惡化的主要原因是樹脂被污染，進出口的污染也可能導致出水水質(zhì)惡化，可以通過分析污染類型，采取有針對性的清洗來解決。
2. 調(diào)整參數(shù)。
如果產(chǎn)水參數(shù)不在正確范圍內(nèi)，則水質(zhì)會變差，可以通過調(diào)整相關的產(chǎn)水參數(shù)來解決問題。
3.調(diào)整電源。
如果是電源極性，應立即切斷電源，檢查接線，將直流電壓調(diào)整到規(guī)定的范圍，并檢查各電路連接是否正確。

引起EDI模塊故障的原因主要有以下幾點：

1、當模塊長期處于大電流、小流量的運行狀態(tài)時，運行溫度會增加并且不能及時散熱，將會導致兩極膜片受熱變形，導致進出水壓差增大，產(chǎn)水水量減少、水質(zhì)下降。

2、當EDI模塊長期沒有保養(yǎng)或清洗，將會使得EDI內(nèi)部膜片和通道結垢，進出水壓差增大，產(chǎn)水水質(zhì)下降，電壓上升，電流調(diào)節(jié)異常，***終將導致模塊無法使用，影響工作進度。

3、當清洗、保養(yǎng)時使用不合適的藥劑,會使得模塊內(nèi)部樹脂破損，導致進出水壓差增大，產(chǎn)水水量減少、水質(zhì)下降。

4、在缺水缺水狀態(tài)加電，導致膜片和樹脂發(fā)熱碳化。

深圳超純環(huán)保股份有限公司有***維修技術人員可以對EDI模塊、CEDI模塊的損壞程度進行診斷并提供維修/再生服務，***EDI模塊恢復正常水平，避免更換模塊的***，用較少***延長使用時間。

超純水在光學領域發(fā)揮著越來越重要的作用。超純水的水質(zhì)純度已成為影響光學器件產(chǎn)品質(zhì)量、產(chǎn)量和生產(chǎn)成本的重要因素之一。

　　光學領域在以下情形下需要使用超純水：

　　1、用于清潔的超純水。如果水中含有氯離子，電容器就會漏電。

　　2、在電子管的生產(chǎn)中，電子管的陰極涂有碳酸鹽。如果混入雜質(zhì)，會影響電子管的質(zhì)量。因此，應使用超純水進行液體制備。

　　3、在顯像管和陰極射線管的生產(chǎn)中，通過噴涂或沉淀法在熒光屏的內(nèi)壁上附著一層熒光物質(zhì)，該熒光物質(zhì)是由鋅或其他金屬的硫化物組成的熒光顆粒，并與硅酸鉀粘結，其制備也需要超純水。

4、在黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)的12道工序中，玻殼清洗、沉淀、潤濕、洗膜、管頸清洗等5道工序需要超純水。

　　5、液晶屏需要用超純水清洗，并與超純水混合。如果水中含有金屬離子、微生物和顆粒等雜質(zhì)，LCD電路將出現(xiàn)故障，影響LCD屏幕的質(zhì)量。

　　6、在晶體管和集成電路生產(chǎn)中，超純水主要用于清洗硅片，少量用于藥液配制、部分設備冷卻水、電鍍液配制等。

　　超純水設備已經(jīng)成為電子產(chǎn)品質(zhì)量安全的重要設備。根據(jù)光學元件用水要求，對超純水處理技術進行了全自動 EDI超純水處理、預處理及反滲透處理，有效去除水中的各種鹽類和雜質(zhì)，進一步改善水質(zhì)，使出水水質(zhì)滿足現(xiàn)場光學元件的用水要求。在原料選擇、設計技術、數(shù)據(jù)監(jiān)測、環(huán)境保護等方面均有較好的應用前景。改進工藝可提高系統(tǒng)回收率，降低能耗和運行費用。