黃山氬氣二氧化碳檢測(cè)中心

?等離子體反應(yīng)介質(zhì)?

?等離子蝕刻?：電離產(chǎn)生的氬離子轟擊晶圓表面，去除特定材料層（如二氧化硅、金屬），形成微電路結(jié)構(gòu)。

?化學(xué)氣相沉積（CVD）?：作為載體氣體輸送反應(yīng)原料，同時(shí)穩(wěn)定等離子體環(huán)境，促進(jìn)薄膜均勻沉積。

?超純環(huán)境構(gòu)建?

?超純水制備?：高純氬氣（≥99.999%）用于置換溶解氧，確保水質(zhì)達(dá)到半導(dǎo)體級(jí)標(biāo)準(zhǔn)（雜質(zhì)≤ppb級(jí)）。

?設(shè)備與部件屏蔽?：在精密設(shè)備（如光刻機(jī)）內(nèi)部形成局部無(wú)塵環(huán)境，防止顆粒污染。