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硅片是制作集成電路的重要材料，通過對(duì)硅片進(jìn)行光刻、離子注入等手段，可以制成各種半導(dǎo)體器件。用硅片制成的芯片有著驚人的運(yùn)算能力?？茖W(xué)技術(shù)的發(fā)展不斷推動(dòng)著半導(dǎo)體的發(fā)展。自動(dòng)化和計(jì)算機(jī)等技術(shù)發(fā)展，使硅片（集成電路）這種高技術(shù)產(chǎn)品的造價(jià)已降到十分低廉的程度。這使得硅片已廣泛應(yīng)用于航天、工業(yè)、農(nóng)業(yè)和，甚悄悄進(jìn)入每一個(gè)家庭。硅片回收利用介紹硅片回收再利用是一種從廢物中分離出來的有用物質(zhì)經(jīng)過物理或機(jī)械加工成為再利用的制作如廢玻璃、廢金屬、硅片，廢電池片的回收再利用指以將再次生產(chǎn)的方式。

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單晶爐提拉速度控制系統(tǒng)的設(shè)計(jì)與分析1　引　言半導(dǎo)體材料是半導(dǎo)體工業(yè)的基礎(chǔ)材料 ,其中用量和用途廣泛的是半導(dǎo)體硅。當(dāng)今 95%以上的半導(dǎo)體器件是用硅材料制造的 ,99%以上的集成電路是硅集成電路 ,生產(chǎn)集成電路所需要的單晶硅 ,是在硅結(jié)晶生長開始時(shí) ,用提拉的辦法制成的。在單晶硅生產(chǎn)過程中 ,對(duì)晶體的提拉速度有十分嚴(yán)格的要求 ,從某種程度上講提拉速度的控制好壞將直接影響到晶體的質(zhì)量。對(duì)單晶硅生產(chǎn)過程中的提拉速度控制系統(tǒng)進(jìn)行研究有實(shí)際意義。圖 1示出了單晶爐提拉速度控制系統(tǒng)在單晶硅生產(chǎn)中的作用。提拉桿的運(yùn)動(dòng)是靠驅(qū)動(dòng)電機(jī)通過減速器 ,再由齒輪齒條機(jī)構(gòu)帶動(dòng)的。在單晶爐中 ,要求提拉單晶硅的提拉桿不僅能以某一期望線速度 V向上 (下 )運(yùn)動(dòng) ,而且當(dāng)提拉負(fù)載增大引起線速度為零時(shí) ,提拉桿能保持其后位置而不上下滑動(dòng)。在實(shí)際單晶爐中 ,對(duì)提拉控制系統(tǒng)提出的主要技術(shù)指標(biāo)是 ,提拉速度在 0 .2～ 1 0 .0 mm/h范圍之內(nèi)實(shí)現(xiàn)無級(jí)可調(diào) ,線性精度大于± 2 %分子泵回收，真空泵回收，真空流量計(jì)回收，plc編程回收，控制屏回收，離子泵回收，渦輪分子泵回收，螺桿真空泵回收，渦旋高真空泵回收，所述氣流導(dǎo)向裝置的中軸孔與該爐的石墨中軸活動(dòng)密封連接，以防止 因該中軸孔與石墨中軸之間的間隙而漏氣，影響排氣效果。所述氣流導(dǎo)向裝置的電極孔分別與該爐的電極柱密封連接，以防止因 該電極孔與電極柱之間的間隙而漏氣，影響排氣效果。所述氣流導(dǎo)向裝置的上端部的外壁與該爐的保溫筒密封連接，以防止 因氣流導(dǎo)向裝置的上端部的外壁與該爐的保溫筒之間的間隙而漏氣，影響 排氣效果所述氣流導(dǎo)向裝置各通氣孔與該爐的排氣口通過通氣管相連通，以提 高排氣效果。所述氣流導(dǎo)向裝置由石墨制成，石墨具有強(qiáng)度高、抗熱震性好、耐高 溫、抗氧化、電阻系數(shù)小、耐腐蝕、易于精密機(jī)加工等優(yōu)點(diǎn)。本發(fā)明具有積極的效果(1)