99.995%)的回收工藝: 廢料特征: 靶材殘?bào)w含Ir 85-92%,摻雜Al?O?或SiO?散熱層。 分離技術(shù): 高壓水射流(350MPa)剝離陶瓷層(效率>99%)。 真空感應(yīng)熔煉(1600℃)去除氧化物" /> 上海松江區(qū)銥粉回收,氧化銥回收廠家-黃頁88網(wǎng)

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上海松江區(qū)銥粉回收,氧化銥回收廠家

更新時(shí)間:2025-09-21 [舉報(bào)]

銥粉回收, 銥粉在半導(dǎo)體封裝中的回收技術(shù)
半導(dǎo)體封裝用銥濺射靶材(純度>99.995%)的回收工藝:

廢料特征:

靶材殘?bào)w含Ir 85-92%,摻雜Al?O?或SiO?散熱層。

分離技術(shù):

高壓水射流(350MPa)剝離陶瓷層(效率>99%)。

真空感應(yīng)熔煉(1600℃)去除氧化物夾雜。

再生標(biāo)準(zhǔn):

參數(shù) SEMI F47標(biāo)準(zhǔn) 再生靶材
電阻率(μΩ·cm) ≤5.3 5.1
晶粒尺寸(μm) 10-50 35
市場影響:臺積電采用該技術(shù)后,靶材采購成本下降28%。

銥粉回收銥粉在柔性電子中的回收挑戰(zhàn)
可折疊屏用納米銥?zāi)?0nm)的回收難點(diǎn):

材料特性:

聚乙烯吡咯烷酮(PVP)包覆層阻礙金屬暴露。

創(chuàng)新方案:

超臨界水氧化(400℃/25MPa)分解有機(jī)物。

微濾膜(0.1μm)收集銥顆粒。

再生性能:

印刷電路方阻<0.5Ω/□(原始值0.3Ω/□)。

經(jīng)濟(jì)瓶頸:當(dāng)前回收成本達(dá)$120/g,需規(guī)?;当?。

銥粉回收的等離子體電解技術(shù)
液相等離子體電解(PE)提純裝置:

反應(yīng)機(jī)制:

高壓脈沖(500V/10kHz)產(chǎn)生非熱等離子體。

Ir??在陰極還原的同時(shí),有機(jī)物被活性氧分解。

運(yùn)行數(shù)據(jù):

參數(shù) 數(shù)值
電流效率(%) 88
能耗(kWh/kg) 45
純度(%) 99.97
設(shè)備供應(yīng)商:日本住友重工的50L級系統(tǒng)已商用化。

標(biāo)簽:松江區(qū)銥粉回收上海銥粉回收
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