99.995%)的回收工藝: 廢料特征: 靶材殘?bào)w含Ir 85-92%,摻雜Al?O?或SiO?散熱層。 分離技術(shù): 高壓水射流(350MPa)剝離陶瓷層(效率>99%)。 真空感應(yīng)熔煉(1600℃)去除氧化物" />
銥粉回收, 銥粉在半導(dǎo)體封裝中的回收技術(shù)
半導(dǎo)體封裝用銥濺射靶材(純度>99.995%)的回收工藝:
廢料特征:
靶材殘?bào)w含Ir 85-92%,摻雜Al?O?或SiO?散熱層。
分離技術(shù):
高壓水射流(350MPa)剝離陶瓷層(效率>99%)。
真空感應(yīng)熔煉(1600℃)去除氧化物夾雜。
再生標(biāo)準(zhǔn):
參數(shù) SEMI F47標(biāo)準(zhǔn) 再生靶材
電阻率(μΩ·cm) ≤5.3 5.1
晶粒尺寸(μm) 10-50 35
市場影響:臺積電采用該技術(shù)后,靶材采購成本下降28%。
銥粉回收銥粉在柔性電子中的回收挑戰(zhàn)
可折疊屏用納米銥?zāi)?0nm)的回收難點(diǎn):
材料特性:
聚乙烯吡咯烷酮(PVP)包覆層阻礙金屬暴露。
創(chuàng)新方案:
超臨界水氧化(400℃/25MPa)分解有機(jī)物。
微濾膜(0.1μm)收集銥顆粒。
再生性能:
印刷電路方阻<0.5Ω/□(原始值0.3Ω/□)。
經(jīng)濟(jì)瓶頸:當(dāng)前回收成本達(dá)$120/g,需規(guī)?;当?。
銥粉回收的等離子體電解技術(shù)
液相等離子體電解(PE)提純裝置:
反應(yīng)機(jī)制:
高壓脈沖(500V/10kHz)產(chǎn)生非熱等離子體。
Ir??在陰極還原的同時(shí),有機(jī)物被活性氧分解。
運(yùn)行數(shù)據(jù):
參數(shù) 數(shù)值
電流效率(%) 88
能耗(kWh/kg) 45
純度(%) 99.97
設(shè)備供應(yīng)商:日本住友重工的50L級系統(tǒng)已商用化。