AOT 光催化水體滅菌技術(shù)，主要利用氧化技術(shù)中產(chǎn)生的強(qiáng)氧化性的羥基自由基（HydroxylRadical，·OH），將水中絕大部分的污染物和微生物，降解為CO2、H2O和無(wú)機(jī)鹽，并且不會(huì)產(chǎn)生二次污染，是一種綠色，安全的氧化技術(shù)。在類(lèi)似于飲用水這種對(duì)處理工藝和安全性要求比較高的領(lǐng)域中有著廣闊的應(yīng)用前景 。

羥基自由基直接破壞細(xì)胞，快捷的摧毀細(xì)胞組織，將水中的細(xì)菌、病毒、微生物、有機(jī)物等迅速分解成CO2和H2O，使微生物細(xì)胞失去復(fù)活、繁殖的能力，從而達(dá)到分解水中細(xì)菌、病毒、微生物、有機(jī)物等的目的。

AOT光催化設(shè)備雙波段設(shè)計(jì)，可以產(chǎn)生游離電子及空穴，利用空穴的氧化和電子的還原能力，產(chǎn)生氧化能力的自由基（活性羥基、超氧根離子、-COOH、H2O2等），這些自由基可輕易破壞細(xì)菌的細(xì)胞，使細(xì)胞質(zhì)流失，進(jìn)而將細(xì)胞氧化，直接殺死細(xì)菌。而這種特殊的光觸媒材料只是催化反應(yīng)，本身的性質(zhì)在反應(yīng)前后不會(huì)發(fā)生變化，也沒(méi)有任何損耗。

紫外線(xiàn)系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)學(xué)決定于以下因素：設(shè)備造價(jià)和壽命；電效率；運(yùn)行中殺菌效果的降低程度；電費(fèi)等。對(duì)于紫外線(xiàn)消毒系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)分析尚未做出定論，有很多結(jié)論不同的分析報(bào)道，有觀點(diǎn)認(rèn)為紫外線(xiàn)殺菌裝置電耗大，設(shè)備維護(hù)費(fèi)和造價(jià)較高。對(duì)于大系統(tǒng)，設(shè)備投資比臭氧系統(tǒng)高，運(yùn)行費(fèi)用與臭氧相仿；但對(duì)于純凈水制造的小型系統(tǒng)投資較臭氧裝置為低。也有觀點(diǎn)認(rèn)為對(duì)于數(shù)千噸/日以上的處理規(guī)模，紫外線(xiàn)消毒系統(tǒng)的投資和運(yùn)行成本很具優(yōu)勢(shì)，要比加氯和臭氧消毒的花費(fèi)都低得多。例如有分析資料報(bào)道，在建造人口數(shù)為10~25000范圍的小型飲用水處理廠(chǎng)時(shí)，紫外線(xiàn)、二氧化氯和臭氧消毒費(fèi)用的近似比例為1:4：（8~9），對(duì)于人口數(shù)大于500000的社會(huì)團(tuán)體，費(fèi)用比約為1:2.5:2.5。

范圍及條件
2.3.4.1 紫外線(xiàn)可以殺滅各種微生物，包括細(xì)菌繁殖體、芽胞、分支桿菌、病毒、真菌、立克次體和支原體等，凡被上述微生物污染的表面，水和空氣均可采用紫外線(xiàn)消毒。
2.3.4.2 紫外線(xiàn)輻照能量低，穿透力弱，僅能殺滅直接照射到的微生物，因此消毒時(shí)使消毒部位充分暴露于紫外線(xiàn)下。
2.3.4.3 用紫外線(xiàn)消毒紙張、織物等粗糙表面時(shí)，要適當(dāng)延長(zhǎng)照射時(shí)間，且兩面均應(yīng)受到照射。
2.3.4.4 紫外線(xiàn)消毒的適宜溫度范圍是20-40℃，溫度過(guò)高過(guò)低均會(huì)影響消毒效果，可適當(dāng)延長(zhǎng)消毒時(shí)間，用于空氣消毒時(shí)，消毒環(huán)境的相對(duì)濕度低于80%為好，否則應(yīng)適當(dāng)延長(zhǎng)照射時(shí)間。
2.3.4.5 用紫外線(xiàn)殺滅被有機(jī)物保護(hù)的微生物時(shí)，應(yīng)加大照射劑量。空氣和水中的懸浮粒子也可影響消毒效果。

使用方法
2.3.5.1 對(duì)物品表面的消毒
(1)照射方式：好使用便攜式紫外線(xiàn)消毒器近距離移動(dòng)照射，也可采取紫外燈懸吊式照射。對(duì)小件物品可放紫外線(xiàn)消毒箱內(nèi)照射。
(2)照射劑量和時(shí)間：不同種類(lèi)的微生物對(duì)紫外線(xiàn)的敏感性不同，用紫外線(xiàn)消毒時(shí)使用照射劑量達(dá)到殺滅目標(biāo)微生物所需的照射劑量。
殺滅一般細(xì)菌繁殖體時(shí)，應(yīng)使照射劑量達(dá)到 10000 uW.s/CM2；殺滅細(xì)菌芽胞時(shí)應(yīng)達(dá)到100000 uW.s/CM2；病毒對(duì)紫外線(xiàn)的抵抗力介于細(xì)菌繁殖體和芽胞之間；真菌抱子的抵抗力比細(xì)菌芽胞更強(qiáng)，有時(shí)需要照射到以對(duì)600000 uW.s/CM2；在消毒的目標(biāo)微生物不詳時(shí)，照射劑量不應(yīng)低于100000 uW.s/CM2。