石英粉分干法和水法兩種生產(chǎn)方式:
　　1、干法生產(chǎn)石英粉，主要設備有磕石機、粉碎機、振動篩等。其工藝流程為石英石礦料經(jīng)過磕石機加工成較小石料，石料再經(jīng)過粉碎機加工砂粒，然后經(jīng)過振動篩篩分，在篩分過程中利用磁鐵棒和排磁鐵除鐵，然后分裝完畢入庫。
　　2、水法生產(chǎn)石英粉，主要設備有磕石機、石碾、烤房、振動篩、水路系統(tǒng)等。
　　其工藝流程大致如下：石英石礦料經(jīng)過磕石機加工成較小石料，石料再經(jīng)過石碾碾壓成砂粒，碾壓時不停的加水，水帶著砂粒流入沉淀池內(nèi)，再把沉淀池內(nèi)的砂粒運入烤房烘烤成干砂粒，然后再經(jīng)過振動篩篩分，在篩分過程中利用磁鐵棒和排磁鐵除鐵，然后分裝完畢入庫。

干法生產(chǎn)的石英粉分為普通石英粉、精制石英粉二種等級。因石英石礦料從山上開采下來的時候，本身帶有黃褐色的表皮。挑選出較小的石英石礦料直接破碎篩分的產(chǎn)品稱普通石英粉，表觀呈現(xiàn)黃褐色與白色相間，其優(yōu)點是價格便宜，缺點是雜質較多，故多用于建筑行業(yè).挑選出大的礦料，經(jīng)過人工去除表面黃褐色外皮，再加工而成的就是精制石英粉了，其表觀呈現(xiàn)白色，亮晶晶，如同白砂糖一樣。因加工過程費時費料，故價位較高。
　　水法生產(chǎn)的石英粉分為普通石英粉和精制石英粉。把較小的石英石礦料加工成普通石英粉，把大的石英石礦料加工成精制石英粉。與干法石英粉相比，水法石英粉因在生產(chǎn)過程，較少產(chǎn)生設備鐵以及用水沖走雜質，如含鐵量及雜質都少于干法石英粉，但因其加工較為費工費料，故價位較高。
　　石英粉不分等級，只分規(guī)格。因其具備白度高，無雜質、鐵量低等特點，故應用范圍廣.

優(yōu)點：
1、顯著提高抗壓、抗折、抗?jié)B、防腐、抗沖擊及耐磨性能，顯著延長砼的使用壽命，特別是在氯鹽污染侵蝕、硫酸鹽侵蝕、高濕度等惡劣環(huán)境下，可使砼的耐久性提高一倍甚至數(shù)倍。　　
2、具有保水、防止離析、泌水、大幅降低砼泵送阻力的作用。具有約5倍水泥的功效，在普通砼和低水泥澆注料中應用可降低成本。提高耐久性?！?br /> 3、提高澆注型耐火材料的致密性，在與Al2O3并存時，更易生成莫來石相，使其高溫強度，抗熱振性增強?！　?br /> 從而被廣泛應用于光學玻璃、電子封裝、電氣絕緣、陶瓷、油漆涂料、精密鑄造、硅橡膠、醫(yī)藥、化裝品、電子元器件以及超大規(guī)模集成電路、移動通訊、手提電腦、航空航天等生產(chǎn)領域。

硅微粉是一種、無味、的無機非金屬材料。由于它具備耐溫性好、耐酸堿腐蝕、導熱系數(shù)高、高絕緣、低膨脹、化學性能穩(wěn)定、硬度大等優(yōu)良的性能，被廣泛用于化工、電子、集成電路（IC）、電器、塑料、涂料、油漆、橡膠、等領域。隨著高技術領域的迅猛發(fā)展，硅微粉亦將步入新的歷史發(fā)展時期。

硅微粉能夠填充水泥顆粒間的孔隙，同時與水化產(chǎn)物生成凝膠體，與堿性材料氧化鎂反應生成凝膠體。在水泥基的砼、砂漿與耐火材料澆注料中，摻入適量的硅灰，可起到如下作用：
⒈顯著提高抗壓、抗折、抗?jié)B、防腐、抗沖擊及耐磨性能。
2.具有保水、防止離析、泌水、大幅降低砼泵送阻力的作用。
⒊顯著延長砼的使用壽命。
⒋大幅度降低噴射砼和澆注料的落地灰，提高單次噴層厚度。
⒌是高強砼的必要成份，已有C150砼的工程應用。
⒍具有約5倍水泥的功效，在普通砼和低水泥澆注料中應用可降低成本，提高耐久性。
⒎有效防止發(fā)生砼堿骨料反應。
⒏提高澆注型耐火材料的致密性。在與Al2O3并存時，更易生成莫來石相，使其高溫強度，抗熱振性增強。

微硅粉的生產(chǎn)方法主要有：
，三氯氫硅法將干燥的硅粉加入合成爐中，與通入的干燥氯化氫氣體在280～330℃有氯化亞銅催化劑存在下進行氯化反應，反應氣體經(jīng)旋風分離除去雜質，再用氯化鈣冷凍鹽水將氣態(tài)三氯氫硅冷凝成液體，經(jīng)粗餾塔蒸餾和冷凝，除去高沸物和低沸物，再經(jīng)精餾塔蒸餾和冷凝，得到精制三氯氫硅液體。純度達到7個“9”以上、雜質含量小于1×10-7，硼要求在0.5×10-9以下。提純后的三氯氫硅送入不銹鋼制的還原爐內(nèi)，用超純氫氣作還原劑，在1050～1100℃還原成硅，并以硅芯棒為載體，沉積而得多晶硅成品。
第二，用SiO2含量大約為95%的硅石和灰分少的焦炭混合，加熱到1900℃左右進行還原。此方法制得的硅純度為97%～98%，被稱作金屬硅。再將金屬硅融化后進行重結晶，用酸除去雜質，得到純度為99.7%～99.8%的金屬硅。如要將它做成半導體用硅，還要將其轉化成易于提純的液體或氣體形式，再經(jīng)蒸餾、分解過程得到多晶硅。如需得到高純度的硅，則需要進行進一步的提純處理。
第三， 用SiO2含量大約為95%的硅石和灰分少的焦炭混合，用1000～3000kVA開式電弧爐，加熱到1900℃左右進行還原。