氧化鋁拋光液作為一種常用的表面處理劑，具有良好的拋光效果和穩(wěn)定性。正確選擇和使用拋光液，可以提高材料的表面質(zhì)量和光潔度，達到預(yù)期的拋光效果。

優(yōu)點：

1.懸浮性好，不易沉淀，使用方便。

2.顆粒分散均勻，不團聚，軟硬度適中，有效避免拋光過程中由于顆粒團聚導致的工件表面劃傷缺陷。

3.運用拋光過程中的化學新作用，提高拋光速度，改善拋光表面的質(zhì)量。

4.分散性好、乳液均一，程度提升拋光速率的同時降低微劃傷的概率，可以提高拋光精度。

5.無粉塵產(chǎn)生，關(guān)注環(huán)保和人體健康安全。

納米氧化鋁透明液體XZ-LY101體顏色無色透明色固含量的20%-25%。該納米氧化鋁透明分散液中使用的是5-10納米的氧化鋁，該5-10納米的氧化鋁是經(jīng)過原來粒徑稍大的納米氧化鋁經(jīng)過層層深加工篩選出來的氧化鋁，具有明顯納米藍相，添加到各種丙烯酸樹脂，聚氨酯樹脂，環(huán)氧樹脂，三聚氰胺樹脂，硅丙乳液等樹脂的水性液體中，添加量為5%到10%，可以明顯提高樹脂的硬度，硬度可達6-8H甚至更高。完全透明，該納米氧化鋁液體可以是水性的或者油性的任何溶劑，由于其納米粒徑相當細小，固無論是何種溶劑皆是透明的，同時可以做各種玻璃涂層材料，寶石，精密儀器材料等。

化學機械拋光（Chemical Mechanical Polishing，CMP）技術(shù)具有特的化學和機械相結(jié)合的效應(yīng)，是在機械拋光的基礎(chǔ)上，根據(jù)所要拋光的表面，加入相應(yīng)的化學試劑，從而達到增強拋光和選擇性拋光的效果?；瘜W機械拋光液的性能是影響化學機械拋光質(zhì)量和拋光效率的關(guān)鍵因素之一。拋光液一般包含氧化劑、絡(luò)合劑、表面活性劑、磨料、pH調(diào)節(jié)劑、腐蝕抑制劑等成分，各種添加劑的選擇和含量對拋光效果都會產(chǎn)生很大的影響。

目前市場上使用為廣泛的幾種磨料是SiO2、CeO2、Al2O3。其中Al2O3憑借其硬度高、穩(wěn)定性好等優(yōu)點，廣泛應(yīng)用于藍寶石、碳化硅等材料的CMP技術(shù)中。Al2O3具有10余種晶型，其中常見的為α、β、γ等，一般選用50～200nm粒徑分布均勻的α-Al2O3作為拋光磨粒。

氧化鋁拋光液，涉及半導體碳化硅晶圓拋光材料制備技術(shù)領(lǐng)域，其所用原料的重量百分比分別為：氧化鋁0.5?55、氧化劑0.05?25、抑制劑0.1?10、表面活性劑0.01?12、分散劑0.01?15、pH調(diào)節(jié)劑0.1?10、余量為高純水；其制備過程為：①備料；②磨料預(yù)處理；③混合；④pH值調(diào)節(jié)；⑤高壓均質(zhì)。