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掃描ZEISS電子顯微鏡廠家

更新時間:2025-09-20 [舉報]

充分發(fā)揮 Gemini 2 型光學系統的性能優(yōu)勢
GeminiSEM 460 的 特 殊 之 處 在 于 配 備 的 Gemini 2 型光學系統主要運用了雙聚光鏡, 在獲得理想的小電子束斑同時可連續(xù)調節(jié)束 流。這使高電子束能量密度下的低束流高分 辨率成像和高束流分析得到了。此外, 您也可以在不同的成像模式之間進行無縫切 換或更改成像參數。此操作簡便快速,因為 在更改成像參數后無需進行校準,而且經調 校的掃描電鏡可以保持穩(wěn)定地工作。

Gemini 3 型鏡筒介紹
Gemini 3 型鏡筒是專為表面靈敏成像領域 的苛刻任務而設計,它確保成像在 1 kV 至 30 kV 的所有工作條件下都能達到高分 辨率。它由兩個協同工作的組件組成,即 Nano-twin 物鏡和智能自動光路調節(jié)—— 它 們組成一個全新的電子光學引擎。 BSE 的優(yōu) 勢也可以為您提供良好的圖像襯度,讓您可 以從樣品中提取出盡可能多的信息。

智能自動光路調節(jié)( Smart Autopilot)
與 Nano-twin 物鏡相結合,新的智能自動光 路調節(jié)讓您受益于以下特點:
? 通過聚光鏡優(yōu)化所有工作條件下的電子束 會聚角,在每種工作能量下都能獲得出色 的分辨率。

全套探測系統: 根據出射能量和出射角選 擇性地探測樣品的電子
GeminiSEM 系列的全套探測系統有大量不同 的探測器可供選配。通過組合 EsB (能量選 擇背散射) 探測器、 Inlens 二次電子探測器 及 AsB (角度選擇背散射) 探測器獲取樣品 材料、表面形貌或結晶度的信息。入射電子 與樣品作用后可產生二次電子( SE ) 和背散 射電子( BSE )。從納米級樣品表面逃逸出的、 能量小于 50 eV 的二次電子可用來表征樣 品的表面形貌。這些二次電子可通過特設 計的電子束推進器向后加速進入鏡筒,并經 Gemini 物鏡投射到環(huán)形 Inlens 二次電子探測 器里。 GeminiSEM 可根據樣品的表面條件在 寬角度范圍內探測二次電子。

在工業(yè)質量、失效分析或研究環(huán)境中,由于掃描電子顯微鏡 可提供高分辨率成像和高空間分辨率元素化學信息,所以它
是金相學和失效分析應用的理想之選。

產品應用領域
■ 金屬 / 高分子 / 陶瓷材料
表面粗糙度分析, 高分辨金相分析, 摩擦磨損分析, 斷口分析, 腐蝕研究, 原位分析。
■ 微納加工
結構分析,表面粗糙度分析, 高深寬比結構表征,膜厚測量。
■ 半導體和微電子
表面缺陷定位和分析、發(fā)光缺陷觀察,表面粗糙度分析,膜厚測量等。
■ 醫(yī)療器械檢測
表面粗糙度分析,金相分析,膜厚測量,微生物觀察等。
■ 生物材料和醫(yī)學
金屬表面細胞生長研究, 微生物金屬腐蝕研究, 植入物表面細菌生長表征等。

標簽:電子顯微鏡廠家十萬倍蔡司電子顯微鏡
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