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一種實(shí)用的單晶爐提拉速度控制系統(tǒng)\前言半導(dǎo)體材料是半導(dǎo)體工業(yè)的基礎(chǔ)材料 ,在半導(dǎo)體材料中用量和用途廣的是半導(dǎo)體硅。當(dāng)今 95 %以上的半導(dǎo)體器件是用硅材料制造的 ,99%以上的集成電路是硅集成電路。生產(chǎn)集成電路所需要的單晶硅 ,是在硅結(jié)晶生長(zhǎng)開始時(shí) ,用低速提拉、生長(zhǎng)過程均速提拉的辦法制成的。提拉速度的控制性能將直接影響到晶體的質(zhì)量。當(dāng)今 ,隨著 IT產(chǎn)業(yè)的迅速發(fā)展 ,單晶硅生產(chǎn)市場(chǎng)需求劇,研制一種滿足工藝要求、低成本的提拉速度控制系統(tǒng)具有重要的實(shí)際意義。

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穿過所疼氣流導(dǎo)向裝置(20) 的中軸孔(2-1)，該爐的一對(duì)電極柱(15)分別穿過所述電極孔(2-2)， 該爐的排氣口 (13)與氣流導(dǎo)向裝置(20)的各通氣孔(2-3)相連通，氣 流導(dǎo)向裝置(20)的上端部(2-4)設(shè)于該爐的保溫筒(17)與發(fā)熱體(16) 之間。3、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的直拉式單晶生長(zhǎng)爐，其特征在于所述氣流 導(dǎo)向裝置(20)的中軸孔(2-1)與該爐的石墨中軸(21)活動(dòng)密封連接。4、 根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的直拉式單晶生長(zhǎng)爐，其特征在于所述 氣流導(dǎo)向裝置(20 )的電極孔(2-2 )分別與該爐的電極柱(15 )密封連接。5、 分子泵回收，真空泵回收，真空流量計(jì)回收，plc編程回收，控制屏回收，離子泵回收，渦輪分子泵回收，螺桿真空泵回收，渦旋高真空泵回收，基本介紹編輯1、主機(jī)部分：機(jī)架，雙立柱\雙層水冷式結(jié)構(gòu)爐體\水冷式閥座\晶體提升及旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)\坩堝提升及旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)\系統(tǒng)\真空系統(tǒng)及自動(dòng)爐壓檢測(cè)控制\水冷系統(tǒng)及多種安全保障裝置\留有二次加料口2、加熱器電源：全水冷電源裝置采用專利電源或原裝進(jìn)口IG及超快恢復(fù)二極管等功率器件。配以高頻變壓器，構(gòu)成新一代高頻開關(guān)電源。采用移相全橋軟開關(guān)（ZVS）及CPU控制技術(shù)，提高了電能轉(zhuǎn)換效率，不需要功率因數(shù)補(bǔ)償裝置。3、計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)：采用PLC和上位工業(yè)平板電腦PC機(jī)，配備大屏幕觸摸式HMI人機(jī)界面、高像素CCD測(cè)徑ADC系統(tǒng)和具有知識(shí)產(chǎn)權(quán)的“全自動(dòng)CZ法晶體生長(zhǎng)SCADA監(jiān)控系統(tǒng)”，可實(shí)現(xiàn)從抽真空—檢漏—爐壓控制—熔料—穩(wěn)定—溶接—引晶—放肩—轉(zhuǎn)肩—等徑—收尾—停爐全過程自動(dòng)控制。