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　真空技術在冶金、化工、輕工、食品、醫(yī)藥等領域得到了十分廣泛的應用，然而在這些領域大都存在塵埃對真空系統(tǒng)的危害問題。為保護真空系統(tǒng)或真空泵不受粉塵和固體顆粒污染和損壞，管路中需配置真空除塵器和真空過濾器。它們可保護真空閥門不被阻塞，避免閥板關閉不嚴造成漏氣，保護測量壓力的真空規(guī)管不受污損，防止泵受損而工作失常等，對真空設備的凈化和平穩(wěn)、持續(xù)工作均很重要。除塵機理及過程從氣體中捕集分離粒子的除塵機理，主要有以下幾個方面:、重力氣流中的塵?？梢砸揽恐亓ψ匀怀两?，從氣流中進行分離。由于塵粒的沉降速度一般較小，這個機理只適用于粗大的塵粒、離心力利用機械力來捕集分離含塵氣流中的粉塵，離心力除塵裝置是其中有效的除塵裝置。它對粒徑較小塵粒的分離捕集非常有效。含塵氣流作圓周運動時，藍寶石長晶爐回收，多晶硅鑄錠爐回收，提拉式長晶爐回收，多晶長晶爐回收，臥式長晶爐回收，拉式單晶爐、收購直拉式單晶爐-85型/90型/95型/100型種種整套單晶回收提爐裝備、分子泵回收，真空泵回收，真空流量計回收，plc編程回收，控制屏回收，離子泵回收，渦輪分子泵回收，螺桿真空泵回收，渦旋高真空泵回收，由于慣性離心力的作用，塵粒和氣流會產(chǎn)生相對運動，使塵粒從氣流中分離、慣性碰撞和接觸阻留含塵氣流在運動過程中遇到物體的阻擋(如擋板、纖維、水滴等) 時，氣流要改變方向進行繞流，細小的塵粒會隨氣流一起流動。粗大的塵粒具有較大的慣性,它會脫離流線，保持自身的慣性運動，這樣塵粒和物體發(fā)生了慣性碰撞而脫離氣流(見圖1)。細小的塵粒隨氣流一起繞流時，如果流線緊靠物體(纖維或液滴) 表面，有些塵粒因與物體發(fā)生接觸而被阻留,這種現(xiàn)象稱為接觸阻留。另外當塵粒尺寸大于纖維網(wǎng)眼而被阻留時，這種現(xiàn)象稱為篩濾作用。

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DL-78型單晶爐的熱場和減壓工藝\1前言集成電路生產(chǎn)的發(fā)展一方面不斷縮小元件尺寸，以提高集成度；另一方面不斷擴大硅片直徑以減少芯片的離故度和降低成本。相應地，作為集成電路基礎材料的硅單晶生產(chǎn)也在不斷地提高其技術質(zhì)量指標和增大單晶錠的直徑和長度，以滿足電路的要求和降低自身的生產(chǎn)成本。在國外市場上，硅晶體直徑大致每4～5年增長1時（25．4mm），相應地，生產(chǎn)投料重也由1公斤逐漸發(fā)展為3～5公斤、8～12公斤、15～劉公斤和朋～6O公廳等幾個等級。在這發(fā)展中，有兩個條件是相輔相成、共同進步的，這是單晶爐和拉晶工藝。