Gemini 2 型電子光學鏡筒讓 GeminiSEM 460 成為高束流下獲取高分辨率成像和快速 分析的理想之選。另外，它還集上一代 Gemini 光學系統(tǒng)的所有優(yōu)勢于一身。例如， 確保了大視野范圍內(nèi)的無畸變 EBSD 分析和 高分辨率成像的物鏡無漏磁設計。
因此您也能夠在不影響電子光學性能的前 提下傾斜樣品， 甚至還能輕松完成磁性樣 品成像。

Nano-twin 物鏡
Nano-twin 物鏡是一種在低加速電壓條件下 工作的電鏡( EM ) 物鏡。通過優(yōu)化幾何結(jié) 構和靜電場及磁場分布， 獲得出色的信號 探測效率， 從而可以在低電壓下達到亞納 米級分辨率。具體來說， 與標準的 Gemini 物鏡相比，它在低電壓下的像差降低了 3 倍。這使得樣品上的磁場降低了 3 倍， 約 為 1mT ，并能夠進行 1kV 以下亞納米成像， 而無需將樣品浸沒在電磁場中。

智能自動光路調(diào)節(jié)優(yōu)化了通過鏡筒的電子軌 跡，從而確保了在每個加速電壓下盡可能高 的分辨率。它還引入了新的自動功能，在整 個放大倍數(shù)范圍內(nèi)(從 1 倍到 2,000,000 倍) 實現(xiàn)無縫對準自由切換，并將觀察視野增 加了 10 倍，從而可以在單幅圖像中完整成 像 13 厘米的物體。GeminiSEM 560 保持了 市場上尺寸達 32k × 24k 的超大圖像存儲像素， 在大視野無畸變拼接成像方面優(yōu)勢。

背散射電子產(chǎn)生于樣品表面之下，可提供 樣品材質(zhì)成分的襯度信息。背散射電子通 常以與入射電子束成 15 度角的圓錐狀出 射， 被 Gemini 鏡筒電子束推進器吸入后射 到鏡筒內(nèi)。由于二次電子( SE ) 與背散射 電子( BSE ) 具有不同的能量，它們會在電 子束推進器內(nèi)產(chǎn)生不同軌跡。

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產(chǎn)品應用領域
■ 金屬 / 高分子 / 陶瓷材料
表面粗糙度分析, 高分辨金相分析, 摩擦磨損分析, 斷口分析, 腐蝕研究, 原位分析。
■ 微納加工
結(jié)構分析,表面粗糙度分析, 高深寬比結(jié)構表征,膜厚測量。
■ 半導體和微電子
表面缺陷定位和分析、發(fā)光缺陷觀察,表面粗糙度分析,膜厚測量等。
■ 醫(yī)療器械檢測
表面粗糙度分析,金相分析,膜厚測量,微生物觀察等。
■ 生物材料和醫(yī)學
金屬表面細胞生長研究, 微生物金屬腐蝕研究, 植入物表面細菌生長表征等。