真空系統(tǒng)是鍍膜機(jī)達(dá)到工藝條件的基本設(shè)備，其真空度達(dá)不到或者達(dá)到真空度速度慢，都有可能是由于存在漏點(diǎn)所致，所以真空卷繞鍍膜機(jī)設(shè)備的真空系統(tǒng)需要定期真空檢漏。真空卷繞鍍膜機(jī)通常采用氦質(zhì)檢漏儀來查漏，主要用負(fù)壓法檢漏即將氦質(zhì)譜檢漏儀的檢漏口接入鍍膜機(jī)的真空系統(tǒng)，在可能泄漏地方噴氦檢漏。

真空鍍膜機(jī)為什么會(huì)越來越慢這種情況有兩種可能
1、設(shè)備內(nèi)部由于長時(shí)間鍍膜導(dǎo)致有些臟東西在加熱時(shí)放氣，所以這種情況需要維護(hù)，即把內(nèi)部屏蔽板拆下噴砂或脫膜，清理。
2、由微小的滲漏，沒有發(fā)現(xiàn)，尤其是各個(gè)傳動(dòng)部位密封，這種情況就是比較難查，如果沒有檢漏儀，就只能一部分一部分拆卸或用盲板逐步替換予以排除。也有人用注射針頭注射酒精觀察真空計(jì)的變化檢查，但一般漏的不大時(shí)不好判斷，至于你說的真空1.9的那個(gè)其實(shí)也并不高，還有就是漏率是按照你的設(shè)備體積以及單位時(shí)間的真空下降程度來算的不是按照真空值計(jì)算的，比如你的真空泵抽速好，抽氣能力強(qiáng)就有可能克服微漏而使真空顯示較高的數(shù)值。

主要由真空鍍膜機(jī)室、真空抽氣機(jī)組及電柜（控制電柜、電子槍電柜）組成，其廣泛應(yīng)用于微電子、光學(xué)成膜、民用裝飾、表面工程等領(lǐng)域。
光學(xué)鍍膜設(shè)備工作原理是在高真空狀態(tài)下、利用電子束對(duì)金屬或非金屬材料加熱到適當(dāng)?shù)臏囟?，材料受熱后蒸發(fā)成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸發(fā)源至被蒸發(fā)基片距離大，蒸發(fā)出來的蒸汽分子向四處直射，碰到基片就沉積在基片表面形成膜層。
維護(hù)與保養(yǎng)主要包換電子槍安裝與維護(hù)、光路的檢修與維護(hù)、設(shè)備的清洗與保養(yǎng)。