廈門光刻膠 美國光刻膠
?類型?:電鍍光刻膠
?深寬比?:具有高深寬比特性(參考同類產(chǎn)品NR9-3000PY的厚度范圍0.1-200μm)
?耐刻蝕性?:的耐刻蝕性能,耐高溫
?電鍍性能?:在酸性和堿性鍍液中具有的穩(wěn)定性
?曝光劑量?:同類產(chǎn)品NR5-8000的曝光劑量為1100 mJ/cm2(可作為參考)
?顯影條件?:堿性水溶液下顯影
?熱穩(wěn)定性?:光刻膠圖案具有良好的熱穩(wěn)定性
顯示器件制造
半導(dǎo)體制造中的電鍍工藝
lift-off工藝
可替代正性光刻膠用于RIE處理和濕法蝕刻