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準備工作：把美甲片妥善放置在真空腔室的基片架上，將濺射靶材安裝在濺射源上，檢查設備各部件連接是否正常，準備好鍍膜所需的氣體，如氬氣等。
抽真空與充氣：開啟真空泵抽取真空腔室內(nèi)的空氣，達到一定真空度后，根據(jù)工藝要求，向腔室內(nèi)充入適量的氬氣等工作氣體，使腔室內(nèi)形成一定的氣體壓力環(huán)境。
產(chǎn)生等離子體：在濺射源和基片之間施加直流或射頻電場，使腔室內(nèi)的氬氣氣體電離，形成等離子體。等離子體中的電子和離子在電場作用下加速運動，與氬氣原子發(fā)生碰撞，產(chǎn)生更多的離子和電子，形成穩(wěn)定的等離子體放電。
濺射與沉積：等離子體中的氬離子在電場作用下加速飛向濺射靶材，與靶材表面的原子發(fā)生碰撞，將靶材原子從靶材表面濺射出來。濺射出來的靶材原子以原子團或離子的形式向美甲片表面運動，并在美甲片表面沉積，逐漸形成薄膜。
結(jié)束與后處理：鍍膜達到預定的厚度和質(zhì)量要求后，停止濺射過程，關閉電源和氣體供應。將美甲片從真空腔室中取出，進行必要的清洗、檢驗等后處理工序。
前期處理：對美甲片進行清洗、脫脂等預處理，以確保美甲片表面干凈、無油污和雜質(zhì)，有利于后續(xù)膜層的附著。將處理好的美甲片放入真空鍍膜機的離子鍍膜腔室中，安裝好離子源和鍍膜材料。
抽真空及氣體導入：啟動真空泵，將腔室內(nèi)抽至較高的真空度。然后，根據(jù)工藝需求，向腔室內(nèi)通入適量的反應氣體，如氮氣、氧氣等，以及用于產(chǎn)生離子的工作氣體，如氬氣。
離子化與加速：通過離子源產(chǎn)生離子束，離子源可以是電子束離子源、射頻離子源等。離子源產(chǎn)生的離子在電場的作用下被加速，獲得較高的能量，形成具有一定能量和速度的離子束。
鍍膜材料蒸發(fā)與離子沉積：采用加熱或其他方式使鍍膜材料蒸發(fā)，蒸發(fā)后的鍍膜材料原子或分子與離子束中的離子發(fā)生碰撞、結(jié)合，形成帶電荷的離子化鍍膜粒子。這些離子化鍍膜粒子在電場作用下，被加速沉積到美甲片表面，同時，離子的轟擊作用還可以使鍍膜層與美甲片表面的結(jié)合更加牢固，提高膜層的附著力和質(zhì)量。
工藝控制與結(jié)束：在鍍膜過程中，需要控制離子束的能量、電流、鍍膜時間、氣體流量等參數(shù)，以確保鍍膜的質(zhì)量和性能符合要求。鍍膜完成后，關閉離子源和氣體供應，停止真空泵運行，待腔室內(nèi)壓力恢復到常壓后，取出鍍膜后的美甲片。
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