3. 開(kāi)維持泵、真空計(jì)電源,真空計(jì)檔位置V1位置,等待其值小于10后,再進(jìn)入下一步操作。約需5分鐘。
4. 開(kāi)機(jī)械泵、予抽,開(kāi)渦輪分子泵電源、啟動(dòng),真空計(jì)開(kāi)關(guān)換到V2位置,抽到小于2為止,約需20分鐘。
5. 觀(guān)察渦輪分子泵讀數(shù)到達(dá)250以后,關(guān)予抽,開(kāi)前機(jī)和
高閥繼續(xù)抽真空,抽真空到達(dá)一定程度后才能開(kāi)右邊的高真空表頭,觀(guān)察真空度。真空到達(dá)2×10-3以后才能開(kāi)電子槍電源。 1. 總電源。
2. 同時(shí)開(kāi)電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源:按電子槍控制Ⅰ電源、延時(shí)開(kāi)關(guān),延時(shí)、電源及保護(hù)燈亮,三分鐘后延時(shí)及保護(hù)燈滅,若后門(mén)未關(guān)好或水流繼電器有故障,保護(hù)燈會(huì)常亮。
3. 開(kāi)高壓,高壓會(huì)達(dá)到10KV以上,調(diào)節(jié)束流可到200mA左右,簾柵為20V/100mA,燈絲電流1.2A,偏轉(zhuǎn)電流在1~1.7之間擺動(dòng)。 1. 關(guān)高真空表頭、關(guān)分子泵。
2. 待分子泵顯示到50時(shí),依次關(guān)高閥、前級(jí)、機(jī)械泵,這期間約需40分鐘。
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在簡(jiǎn)易隔離式偏壓電源設(shè)計(jì)中,非對(duì)稱(chēng)半橋反激電路是關(guān)鍵。它通過(guò)同步降壓電路提供隔離電源,類(lèi)似于同步降壓調(diào)節(jié)器的工作原理。輸入電壓驅(qū)動(dòng)的場(chǎng)效應(yīng)管(FET)驅(qū)動(dòng)電感電容濾波器,隨后通過(guò)分壓器和誤差放大器的協(xié)同作用,調(diào)整濾波器輸出,保持DC電壓穩(wěn)定。特別之處在于,電感電路中的耦合繞組和二極管設(shè)計(jì)巧妙地解決了負(fù)載電壓調(diào)節(jié)的難題,通過(guò)二極管的直流電壓調(diào)整,提升了負(fù)載調(diào)節(jié)的精度。如果采用場(chǎng)效應(yīng)管替代,性能將進(jìn)一步提升。
總結(jié)起來(lái),真空多弧離子鍍膜機(jī)的偏壓電源是一個(gè)精密調(diào)控的系統(tǒng),它通過(guò)復(fù)雜的電路設(shè)計(jì),確保了離子的加速和沉積過(guò)程,從而實(shí)現(xiàn)的涂層工藝。無(wú)論是直流還是脈沖電源,每一環(huán)節(jié)都對(duì)終的鍍膜效果有著至關(guān)重要的影響。
1.在真空鍍膜機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)正常情況下,開(kāi)動(dòng)真空鍍膜機(jī)時(shí),先開(kāi)水管,工作中應(yīng)隨時(shí)注意水壓。
2.在離子轟擊和蒸發(fā)時(shí),應(yīng)特別注意高壓電線(xiàn)接頭,不得觸動(dòng),以防觸電。
3.在用電子槍鍍膜時(shí),應(yīng)在鐘罩外圍上鋁板。觀(guān)察窗的玻璃好用鉛玻璃,觀(guān)察時(shí)應(yīng)戴上鉛玻璃眼鏡,以防X射線(xiàn)侵害人體。
4.鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間,應(yīng)安裝通風(fēng)吸塵裝置,及時(shí)排除有害粉塵。
5.易燃有毒物品要妥善保管,以防失火中毒。
6.酸洗夾具應(yīng)在通風(fēng)裝置內(nèi)進(jìn)行,并要戴橡皮手套。
7.把零件放入酸洗或堿洗槽中時(shí),應(yīng)輕拿輕放,不得碰撞及濺出。平時(shí)酸洗槽盆應(yīng)加蓋。
8.工作完畢應(yīng)斷電、斷水。
真空鍍膜加工中冷卻設(shè)備需要提供智能、穩(wěn)定的冷凍水,來(lái)確保真空鍍膜工藝中電鍍液的溫度恒定,所以會(huì)選擇使用水冷式冷水機(jī)來(lái)作為真空鍍膜加工冷卻設(shè)備。
一 真空鍍膜加工中冷卻設(shè)備冷水機(jī)的作用
真空鍍膜加工過(guò)程中,真空鍍膜機(jī)作為主要設(shè)備,工作過(guò)程中有高頻電流過(guò)程,電導(dǎo)會(huì)在反復(fù)過(guò)程中產(chǎn)生大量熱能并且集聚在一起,需要冷卻設(shè)備及時(shí)地進(jìn)行冷卻,避免設(shè)備部件損壞,影響使用壽命;另外,真空鍍膜電鍍液需要根據(jù)電鍍產(chǎn)品不同進(jìn)行溫度調(diào)節(jié),并保持相對(duì)恒溫,反復(fù)鍍膜會(huì)造成鍍液溫度升高,同樣需要冷卻設(shè)備來(lái)準(zhǔn)確地控制和穩(wěn)定電鍍液的溫度。在工業(yè)生產(chǎn)控溫中,根據(jù)真空鍍膜加工的實(shí)際需求,選用相應(yīng)規(guī)格的冷水機(jī)設(shè)備來(lái)進(jìn)行、穩(wěn)定的溫度控制調(diào)節(jié)是經(jīng)濟(jì)有效的解決方案。
裝飾真空鍍膜設(shè)備是蒸發(fā)式鍍膜裝置,在真空室中利用電阻加熱法,將緊貼在電阻絲上的金屬絲(鋁絲)熔融汽化,汽化了金屬分子沉積于基片上,而獲得光滑高反射率的膜層,達(dá)到裝飾美化物品表面的目的。
該設(shè)備具有:結(jié)構(gòu)合理,膜層均勻、成膜質(zhì)量好、抽速大、工作同期短、生產(chǎn)、操作方便,能耗低性能穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)。廣泛應(yīng)用于汽車(chē)、音響、各類(lèi)小家電、電腦、鐘表、玩具、手機(jī)、反光杯、化妝品、玩具等行業(yè)。
可加工的材料包括:ABS、PS、PP、PC、PVC、尼龍、金屬、波麗、玻璃、陶瓷、TPU等。
鍍制效果有:普通電鍍亮面、啞面(半啞、全?。⒐に囯婂儼櫦y、拉絲、雨滴、七彩等;鍍制顏色有:金、銀、紅、藍(lán)、綠、紫、七彩等等。
直接的鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法(QCM),這種儀器可以直接驅(qū)動(dòng)蒸發(fā)源,通過(guò)PID控制循環(huán)驅(qū)動(dòng)擋板,保持蒸發(fā)速率。只要將儀器與系統(tǒng)控制軟件相連接,它就可以控制整個(gè)的鍍膜過(guò)程。但是(QCM)的度是有限的,部分原因是由于它監(jiān)控的是被鍍膜的質(zhì)量而不是其光學(xué)厚度。
? ? 此外雖然QCM在較低溫度下非常穩(wěn)定,但溫度較高時(shí),它會(huì)變得對(duì)溫度非常敏感。在長(zhǎng)時(shí)間的加熱過(guò)程中,很難阻止傳感器跌入這個(gè)敏感區(qū)域,從而對(duì)膜層造成重大誤差。
? ? 光學(xué)監(jiān)控是高精密鍍膜的的監(jiān)控方式,這是因?yàn)樗梢愿乜刂颇雍穸?如果運(yùn)用得當(dāng))。度的改進(jìn)源于很多因素,但根本的原因是對(duì)光學(xué)厚度的監(jiān)控。
? ? OPTIMAL SWA-I-05單波長(zhǎng)光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng),是采用間接測(cè)控,結(jié)合汪博士開(kāi)發(fā)的光學(xué)監(jiān)控軟件,有效提高光學(xué)反應(yīng)對(duì)膜厚度變化靈敏度的理論和方法來(lái)減少誤差,提供了反饋或傳輸?shù)倪x擇模式和大范圍的監(jiān)測(cè)波長(zhǎng)。特別適合于各種膜厚的鍍膜監(jiān)控包括非規(guī)整膜監(jiān)控。
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